1. 產(chǎn)品概述
2. 核心性能參數(shù)
測量量程:50nm ~ 800μm(全系列覆蓋薄膜 / 厚膜 / 極厚膜場景);
測量精度:薄膜 / 厚膜模型重復性 3σ<1.0nm,極厚膜模型 3σ<10nm,膜厚分解能達 1nm;
數(shù)據(jù)采集:支持百萬級點位測量,在線型設備可實現(xiàn)高速數(shù)據(jù)采集;
空間分辨率:5μm ~ 300μm(分型號適配,高分辨率型可達 5μm 級);
適配樣品:4~12 英寸晶圓、A4 尺寸以內板材、柔性薄膜、涂層材料等;
顯示輸出:自動生成膜厚分布熱力圖、均勻性分析報表、缺陷定位數(shù)據(jù),支持多格式導出。
3. 產(chǎn)品型號與適用場景
| 型號系列 | 核心適用場景 | 關鍵特點 |
|---|---|---|
| S 系列(標準型) | 實驗室多品類膜層檢測、晶圓厚度均勻性監(jiān)控 | 全量程覆蓋,可切換薄膜 / 厚膜 / 極厚膜測量模式 |
| H 系列(高分辨率型) | 半導體晶圓局部高精度檢測、研發(fā)級微膜層分析 | 適配 6 英寸晶圓,支持 5μm 級高分辨率點測 |
| Inline 型(在線型) | 薄膜產(chǎn)線在線檢測、量產(chǎn)型晶圓工藝監(jiān)控 | 產(chǎn)線集成設計,IP65 防護可選,兼容產(chǎn)線運行 |
4. 日本 JFE FiDiCa 非接觸膜厚分布測定儀 產(chǎn)品優(yōu)勢與特點
非接觸無損測量:無需接觸樣品表面,避免基材損傷,適配精密膜層與易碎樣品;
全量程適配:從 50nm 超薄膜到 800μm 極厚膜,一套設備覆蓋多類工業(yè)膜層檢測需求;
可視化輸出:自動生成熱力圖與分析報告,數(shù)據(jù)直觀易懂,降低數(shù)據(jù)解讀成本;
多形態(tài)兼容:支持桌面式、落地式、產(chǎn)線集成式三種安裝形態(tài),適配實驗室與工業(yè)產(chǎn)線;
運行穩(wěn)定:工業(yè)級硬件配置,工作溫度 10℃~35℃,適配國內工業(yè)環(huán)境穩(wěn)定運行。













