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PLASMA等離子清洗機(jī) 灰化光刻膠聚合物剝離設(shè)備
參考價(jià): 2000
訂貨量: 1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • PLASMA 產(chǎn)品型號(hào)
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訪問(wèn)次數(shù):1346更新時(shí)間:2023-04-17 10:22:23

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
等離子清洗機(jī) 灰化光刻膠聚合物剝離設(shè)備包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗,不僅*去除光刻膠和其他有機(jī)物,而且活化和粗化晶圓表面,提高晶圓表面浸潤(rùn)性。
產(chǎn)品介紹

等離子清洗機(jī) 灰化光刻膠聚合物剝離設(shè)備是高精度的干法清洗設(shè)備,等離子清洗機(jī)處理范圍為納米級(jí)別的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物。 等離子清洗機(jī)外觀簡(jiǎn)潔,高度集成化,該設(shè)備外觀簡(jiǎn)潔、高度集成化,可應(yīng)用在半導(dǎo)體、微納電子、MEMS、PCB、 光學(xué)電子、光學(xué)制造、汽車電子、醫(yī)療產(chǎn)品、生命科學(xué)、食品行業(yè)等領(lǐng)域,可對(duì)各種材料的表面進(jìn)行有機(jī)物去除、清潔、靜電消除,化學(xué)修飾或涂層沉積。

等離子清洗機(jī) 灰化光刻膠聚合物剝離設(shè)備清潔、改性、光刻膠灰化

等離子清洗機(jī)除了具有材料表面清洗、表面活化、表面蝕刻、表面涂層外,還能去除有機(jī)物以及無(wú)機(jī)物的殘留物

等離子清洗機(jī)去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用

等離子清洗機(jī)用于半導(dǎo)體行業(yè)晶圓去膠、蝕刻,芯片粘接前處理、半導(dǎo)體封裝、BGA封裝、COBCOG、COF、ACF工藝有效去除表面油性污垢和有機(jī)污染物粒子,提升封裝穩(wěn)定性

等離子處理機(jī)清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架

等離子清洗機(jī)提高黏附性,消除鍵合問(wèn)題

等離子清洗機(jī)能對(duì)Teflon特氟龍表面活化、硅膠、ABSPP、PE、PC、PET表面活化以及其他塑料材質(zhì)清洗活化,提高材料粘接強(qiáng)度及印刷油墨、涂層、鍍層牢固度。

等離子清洗機(jī)產(chǎn)生親水或疏水表面

等離子清洗機(jī)廣泛用于1、等離子表面活化/清洗2、等離子處理后粘合3、等離子蝕刻/活化4、等離子去膠;5、等離子涂鍍(親水,疏水)6、增強(qiáng)邦定性7、等離子涂覆8、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合通過(guò)等離子清洗機(jī) 灰化光刻膠聚合物剝離設(shè)備處理,能夠改善材料表面的浸潤(rùn)能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂

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等離子清洗機(jī)用于光刻膠剝離或灰化,作為干法清洗等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng),一致性好,不僅*去除光刻膠有機(jī)物,而且還活化和粗化晶圓表面,提高晶圓表面浸潤(rùn)性

晶圓清潔 - 等離子清洗機(jī)用于在晶圓凸點(diǎn)工藝前去除污染,還可以去除有機(jī)污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。

晶圓刻蝕 - 等離子清洗機(jī)預(yù)處理晶圓的殘留光刻膠和BCB,重新分配圖形介電層,線條/光刻膠刻蝕,等離子清洗機(jī)應(yīng)用于晶圓材料的附著力增強(qiáng),去除多余的塑封材料/環(huán)氧樹脂,增強(qiáng)金焊料凸點(diǎn)的附著力,晶圓減壓減少破碎,提高旋涂膜附著力,清潔鋁焊盤。

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